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2018年12月17日 氧化爐的主要功能是為硅等半導(dǎo)體材料進(jìn)行氧化處理,提供要求的氧化氛圍,實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體預(yù)期設(shè)計(jì)的氧化處理過(guò)程,是半導(dǎo)體加工過(guò)程的不可缺少的一個(gè)環(huán)節(jié)。 4、磁控濺射臺(tái) 磁控濺射是物理氣

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