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    (上海交通大學(xué)微電子學(xué)院, 上海 200240) 摘要: 化學(xué)機(jī)械研磨是當(dāng)今能夠提供用于超精密硅晶片表面的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)技術(shù)研究[J]. 潤(rùn)滑與密封,
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    法人名稱(chēng): 東莞東元研磨機(jī)械有限公司 主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品: 振動(dòng)研磨設(shè)備, 拋光, 研磨清洗劑, 除蠟水, 超聲波清洗劑, 皮膜劑, 黑硅, 綠硅, 離心研磨
    福吉電子科技有限公司()專(zhuān)注于研發(fā)化學(xué)機(jī)械拋光耗材的領(lǐng)域,產(chǎn)品有藍(lán)寶石拋光液,氧化硅拋光液,精拋墊,研磨液,化學(xué)機(jī)械拋光,廣泛用于平面拋光領(lǐng)域.
    上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司(德國(guó)IKN工業(yè)設(shè)備) 經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)商 商鋪產(chǎn)品:468條 硅凝膠膠體高速剪切膠體磨,凍膠研磨均質(zhì)分散機(jī),凝膠粉碎機(jī),解決粘度
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